литография, электронно-лучевая (англ. electron beam lithography) — технология электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста с помощью электронного пучка

Описание

Имеются две системы электронно-лучевой литографии – сканирующая и проекционная.

В сканирующей электронно-лучевой литографии резист экспонируется (сканируется) последовательно перемещаемым в плоскости рисунка фокусированным пучком электронов. Управление электронным лучом производится по определенной программе с помощью компьютера, поэтому не нужно применять какие-либо шаблоны или маски, но последовательное сканирование всего рисунка увеличивает время экспонирования.

В проекционной электронно-лучевой литографии широкий нефокусированный поток электронов используется для получения всего рисунка в течение одной экспозиции. В такой системе фотокатод расположен на поверхности оптической маски с заданным рисунком. Ультрафиолетовые лучи облучают фотокатодный слой через маску, что вызывает эмиссию электронов с фотокатода в облученных местах рисунка. Эти электроны проецируются на поверхность резиста с помощью однородных электростатических и магнитных полей. В результате на всей площади подложки рисунок создается за одну экспозицию.

Иллюстрации

Рис. 1. Проекционная система электронно-лучевой литографии.
Рис. 1. Проекционная система электронно-лучевой литографии.
Рис. 2. Сканирующая система электронно-лучевой литографии.
Рис. 2. Сканирующая система электронно-лучевой литографии.

Автор

  • Гусев Александр Иванович

Источник

  1. Гусев А. И. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. - М., Наука-Физматлит, 2007. - 416 с.

Напишите нам