химическое осаждение из паров металлорганических соединений (англ. metalorganic chemical vapour deposition сокр., MOCVD) — разновидность метода химического осаждения из газовой фазы, в которой в качестве прекурсоров используются летучие металлоорганические соединения.

Авторы

  • Журавлева Наталья Геннадиевна
  • Шляхтин Олег Александрович

Напишите нам