дельта-легирование (англ. delta-doping) — формирование в объеме слаболегированного полупроводника тонкого слоя (толщиной порядка 1 нм) с высоким уровнем легирования.

Описание

Название «дельта-легирование» обусловлено тем, что в этом случае распределение концентрации легирующей примеси по глубине полупроводникового образца имеет вид дельта-функции Дирака.

Автор

  • Саранин Александр Александрович

Напишите нам