плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
сокр.,
ПХО; ПХГФО
иначе
плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы; стимулированное плазмой
(англ. plasma-enhanced chemical vapor deposition сокр., PECVD)
—
процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы.
Описание
Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приемов возбуждения плазмы в реакционном объеме и управление ее параметрами позволяет интенсифицировать процессы роста покрытий, проводить осаждение аморфных и поликристаллических пленок при значительно более низких температурах подложки, делает более управляемыми процессы формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичныхи процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанными на термическом разложении реакционного газа.
Авторы
- Журавлева Наталья Геннадиевна
- Наймушина Дарья Анатольевна
Источники
- НТЦ Нанотехнология, 2006. — www.nano.org.ua
- Передовые плазменные технологии // Intech, 2008. — www.plasmasystem.ru