химическое осаждение из паров металлорганических соединений
(англ. metalorganic chemical vapour deposition сокр., MOCVD)
— разновидность метода химического осаждения из газовой фазы, в которой в качестве прекурсоров используются летучие металлоорганические соединения.
Авторы
- Журавлева Наталья Геннадиевна
- Шляхтин Олег Александрович
