дельта-легирование
(англ. delta-doping)
— формирование в объеме слаболегированного полупроводника тонкого слоя (толщиной порядка 1 нм) с высоким уровнем легирования.
Описание
Название «дельта-легирование» обусловлено тем, что в этом случае распределение концентрации легирующей примеси по глубине полупроводникового образца имеет вид дельта-функции Дирака.
Автор
- Саранин Александр Александрович