плазменно-химическое осаждение из газовой фазы сокр., ПХО; ПХГФО иначе плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы; стимулированное плазмой (англ. plasma-enhanced chemical vapor deposition сокр., PECVD) — процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы.

Описание

Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приемов возбуждения плазмы в реакционном объеме и управление ее параметрами позволяет интенсифицировать процессы роста покрытий, проводить осаждение аморфных и поликристаллических пленок при значительно более низких температурах подложки, делает более управляемыми процессы формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичныхи процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанными на термическом разложении реакционного газа.

Авторы

  • Журавлева Наталья Геннадиевна
  • Наймушина Дарья Анатольевна

Источники

  1. НТЦ Нанотехнология, 2006. —www.nano.org.ua
  2. Передовые плазменные технологии // Intech, 2008. —www.plasmasystem.ru

Напишите нам