Описание
В нанопечатной литографии изображение образуется за счёт механической деформации полимерного покрытия (резиста) пресс-формой (штампом), а не путем изменения химической структуры покрытия с помощью облучения, как в литографии с экспонированием. Исключение из технологического процесса облучения резиста через маску упрощает производство. С помощью нанопечатной литографии можно получать наноструктуры размером менее 10 нм на достаточно больших площадях, что недоступно для всех других методов литографии.
Иллюстрации
![]() |
Схема нанопечтной литографии (остатки резиста на вдавленных участках анизотропно
вытравливаются): (1) подложка, (2) резист, (3) штамп. |
Автор
- Гусев Александр Иванович
Источники
- Гусев А. И. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. — М., Наука-Физматлит, 2007.—416 с.
- Кобаяси Н. Введение в нанотехнологию. — М.: Бином, 2007.—134 с.